德国蔡司：DUV光刻机器比EUV光刻机器更重要。美

英雄们的灵魂被送往成千上万的老鹰，这些老鹰陷入了中国，所有智慧的灵魂带来了十亿个智慧核心，称呼中国。 01边境指南根据德国SMT Zeiss（半导体制造技术）发表的官方报告，Zeiss是光刻机器全球高级业务的独家供应商。对于平版印刷机行业，DUV技术比EUV技术更重要。尽管使用EUV光刻机制造了高级芯片，但芯片中的大多数关键层都是根据DUV技术制成的。世界上几乎80％的微电芯片是由Zeiss和ASML开发的光刻机器生产的，而95％的芯片是由DUV光刻机器生产的。掌握高级DUV制造技术等于掌握全球芯片行业的主要主要优势。 02除了对先进技术市场芯片的超高需求外，诸如移动设备之类的产品手机，计算机，平板电脑和智能汽车对工业控制，智能家用电器和燃油汽车等行业中高级芯片的需求相对较弱，更重要的是，成熟芯片的需求很大。对于成熟的芯片，将DUV设备技术用于制造是最好的解决方案。 DUV长度分为365nm，248nm和193nm，可以涵盖0.35微米至14nm的芯片制造需求。此外，DUV市场的数量很大，制造技术较旧，这可以满足许多在国际水平成熟筹码的公司的需求。尽管EUV设备可以生产大量的高级芯片，但其总成本更高，与DUV设备相比，价格是两倍。实际上，它可以由英特尔，TSMC，三星和SK Hynix等主要国际制造商消化。 2018年，中国大陆SMIC花费了1.5亿美元订购EUV LITHOGR来自ASML的Aphy机器，相当于去年全年的SMIC收入。尽管美国的处罚逐渐撤退，但在美国的压力下，荷兰政府撤销了ASML将EUV光刻引擎出售给中国的许可证，并暂停了产品的交付。 EUV被阻塞，但可以继续交付DUV设备，因此中国公司在2022年和2023年期间从ASML购买了Malmy数量的光刻机器和制造业，这些机器已及早收到，并确保了尽可能多的国内芯片生产能力的影响。制造成熟芯片的基本设备是一台微不足道的DUV光刻机器。上一代危险的技术是干燥的技术。干燥光刻机器的镜头分辨率受芯片上方的空气空间的限制，并且不能缩短，该空间接近设备的物理极限。因此，前TSMC工程师Lin Benjian添加了高水位到空气空间，并在水中拍摄了光资源以产生校正，从而缩短了光线的长度和增加的光刻镜头镜头≤40nm，这可能会产生更先进的芯片产品，并相当贴图地图。制造卓越。在制造光刻机器的制造印刷机中，它们的镜头是蔡司，德国和统一世界的一个 - 仪化，可以制造出满足要求的光刻机器。如今，需要国内光刻设备来完成浸入设备的开发。该公司面临的主要问题是提高光源发射器和支撑组件的兼容性并提高制造芯片的收益率。 03成熟的芯片根据美国半导体协会的一项调查报告，中国大陆比28nm成熟芯片及以上的生产能力具有重要优势未来几年将继续增加。高级芯片很重要，但是成熟芯片的ANG总市场大于先进的芯片。以车辆行业为例，无论是燃料车还是新的能源车辆，对先进芯片的需求最强大的模块是汽车芯片和智能驾驶芯片。其他控制器，传感器，电源芯片和其他产品都是成熟的芯片工艺。这些芯片需要满足成绩要求并有严格的要求，例如低成本，高稳定性，高阻力温度，耐腐蚀性和长期弱点。高级芯片在自动化行业中的作用不仅是驾驶的高水平，而且其余的是改善车辆操作的平稳性，这基本上是由手机和计算机的应用涵盖的。除了车辆行业外，家用电器行业和工业控制都需要低成本和强大的稳定性用于产品驱动器的成熟芯片。大型应用市场使中国公司在受到美国惩罚时可以找到工业突破。中国公司手中有大量的ASML DUV光刻机器，这可以继续以高效率生产成熟的芯片。当中国公司的成熟筹码在国际水平市场中占有很大的份额时，中国公司可以将半导体行业的全球连锁店深入融合，以实现中国产品中国外的公司希望，从而增加了国际芯片市场中Chinesechina公司声音声音的声音。评论以前的经典：500,000+阅读先前经典的评论数量：100万读卷 特别声明：上面的内容（包括照片或视频（如果有））已由“ NetEase”自助媒体平台的用户上传和发布。该平台仅提供信息存储服务。 注意：上面的内容（包括照片和视频（如果有））已由NetEase Hao用户上传和发布，该用户是社交媒体平台，仅提供信息存储服务。 [预览] 9月22日至26日丨第61和第143个“文明教学文明与核心文明与发展的反对