德国蔡司：DUV光刻机器比EUV光刻机器更重要。美

英雄们的灵魂被送往成千上万的老鹰，这些老鹰陷入了中国，所有智慧的灵魂带来了十亿个智慧核心，称呼中国。 01边境指南根据德国SMT Zeiss（半导体制造技术）发表的官方报告，Zeiss是光刻机器全球高级业务的独家供应商。对于平版印刷机行业，DUV技术比EUV技术更重要。尽管使用EUV光刻机制造了高级芯片，但芯片中的大多数关键层都是根据DUV技术制成的。世界上几乎80％的微电芯片是由Zeiss和ASML开发的光刻机器生产的，而95％的芯片是由DUV光刻机器生产的。掌握高级DUV制造技术等于掌握全球芯片行业的主要主要优势。 02除了对先进技术市场芯片的超高需求外，MO等产品胆汁手机，计算机，平板电脑和智能汽车，对工业控制，智能家用电器和燃油汽车等行业中高级芯片的需求相对较弱，更重要的是，成熟芯片的需求很大。对于成熟的芯片，将DUV设备技术用于制造是最好的解决方案。 DUV长度分为365nm，248nm和193nm，可以涵盖0.35微米至14nm的芯片制造需求。此外，DUV市场的数量很大，制造技术较旧，可以满足Produ Accientsksyon在许多国际水平成熟芯片上的巨大需求。 尽管EUV设备可以生产大量的高级芯片，但其总成本更高，与DUV设备相比，价格是两倍。实际上，它可以由英特尔，TSMC，三星和SK Hynix等主要国际制造商消化。 2018年，中国大陆Smic花了1.5亿美元订购EUV来自ASML的光刻机器，相当于去年全年的SMIC收入。尽管美国的处罚逐渐撤退，但在美国的压力下，荷兰政府撤销了ASML将EUV光刻引擎出售给中国的许可证，并暂停了产品的交付。 EUV被阻塞，但可以继续交付DUV设备，因此中国公司在2022年和2023年期间从ASML购买了大量的光刻机器和制造业，并提前包含了该设备，并确保了尽可能多地生产国内芯片的生产能力。 制造成熟芯片的基本设备是一台微不足道的DUV光刻机器。上一代危险的技术是干燥的技术。干燥光刻机器的镜头分辨率受芯片上方的空气空间的限制，并且不能缩短，该空间接近设备的物理极限。所以形成ER TSMC工程师Lin Benjian向空间中增加了高水位，并在水中拍摄了光资源以产生校正，从而缩短了光线的长度并增加了光刻镜头范围≤40nm，这可能会产生更先进的芯片产品，并促进制造效率。在制造光刻机器的制造印刷机中，它们的镜头是蔡司，德国和统一世界的一个 - 仪化，可以制造出满足要求的光刻机器。 现在，国内光刻设备希望完成危险的设备的开发并将其置于商业用途中，面临的主要问题是改善光源发射器的兼容性和支持成分并提高制造芯片的产量率。 03成熟的芯片根据美国半导体协会的一项调查报告，中国大陆比28nm成熟CH的生产能力具有重要优势IP及以上，价值全球芯片市场的33％，在未来几年中，这种能力将继续增加。芯片很重要，但成熟芯片的一般市场比先进的芯片大。以车辆行业为例，无论是燃料车还是新的能源车辆，对先进芯片的需求最强大的模块是汽车芯片和智能驾驶芯片。其他控制器，传感器，电源芯片和其他产品都是成熟的芯片工艺。这些芯片需要满足成绩要求并有严格的要求，例如低成本，高稳定性，高阻力温度，耐腐蚀性和长期弱点。高级芯片在自动化行业中的作用不仅是驾驶的高水平，而且其余的是改善围伤的操作的平稳性，这基本上是由移动电话和计算机的应用所涵盖的。除了车辆行业，两者都在磨牙和工业控制需要低成本和成熟芯片的稳定稳定性用于产品驱动器。大型应用市场使中国公司在受到美国惩罚时可以找到工业突破。中国公司手中有大量的ASML DUV光刻机器，这可以继续以高效率生产成熟的芯片。当中国公司的成熟筹码占据国际水平市场上的主要股份时，中国公司可以将半导体行业的全球连锁店深入融合，以实现ProductsChinese中海外公司的希望，从而增加了国际芯片市场中中国公司的声音。评论以前的经典：500,000+阅读先前经典的评论数量：100万读卷 特别声明：本文已由NetEase的自媒体平台“ NetEase”的作者上传和发表，并且仅代表作者的观点。仅netease提供信息发布平台。 注意：上面的内容（包括照片和视频（如果有））已由NetEase Hao用户上传和发布，该用户是社交媒体平台，仅提供信息存储服务。